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含钨合金的化学成分一览表
作者:佚名    文章来源:中国钨协新闻网    更新时间:2010-3-11 14:30:57

含钨合金的化学成分一览表


 

 

 

某些超合金(含钨)的组成部分(重量)%

 

合金

组成()

Cr               

Ni

Co

Mo

W

Nb

Ti

Al

Fe

C

其他

Fe-Ni

19-9DL

19.9

9.0

 

1.25

1.25

0.4

0.3

 

66.8

0.30

1.10Mn0.6Si

Ni
Rene80 Rene95
MAR-M247 INMA-6000E

 

14.0
14.0
8.25
15.0

 

60.0
61.0
59.0
68.5

 

9.5
8.0
10.0



4.0
3.5
0.7
2.0


4.0
3.5
10.0
4.0



3.5


5.0
2.5
1.0
2.5


3.0
3.5
5.5
4.5

 


<0.3
<0.5


0.17
0.16
0.15
0.05


0.015B,0.03Zr
0.01B,0.05Zr
0.015B
1.1Y2O3,2.0Ta,
0.01B,0.15Zr

Co
Haynesm25
(L605) Haynesl88 S-816
X-40
WI-52
MAR-M3O2 MAR-M5O9
J-1570 




20.0
22.0
20.0
22.0
21.0
21.5
23.5
20.0



10.0
22.0
20.0
10.0


10.0
28.0



50.0
37.0
42.0
57.5
63.5
58.0
54.5
46.0





4.0



15.0
14.5
4.0
7.5
11.0
10.0
7.0





4.0









0.2
4.0








3.0
3.0
最大
4.0
1.5
2.0
0.5

2.0



0.10
0.10
0.38
0.50
0.45
0.85
0.6
0.2



1.5Mn
0.90La

0.5Mn,0.5Si
2.0Nb+Ta
9.0Ta,0.005B,0.2Zr
0.5Zr,3.5Ta

目前使用的知名超合金共有3540个牌号,其中相当一部分的主成分之一为钨(见表)

 这些合金中钨的用量最低为0.6%,最高为15%,占有比例并不高,但从高温工程如航空工业和热电厂对他们的需求绝对数量看,其用量将十分可观。估计全球在超合金中,大约2/3以上用于航空航天业,1/7用于核电站、燃气涡轮电站,另1/7用于海事作业和运输业。

 钨的主要问题是咨源短缺。为此一些钨资源短缺地区如欧洲开展了以钼代钨的研究,另外从节约材料的角度考虑,国外还出现了高工效的涂层硬质合金。估计硬质合金涂层本身在硬度、化学稳定性、耐磨性能、摩擦系数(要求低)、热导率以及阻挡钴和碳从基材(衬底)扩散的有效性等方面大体已经解决。

在电子工业尤其是集成电路制造中,利用化学气相沉积(CVD)在衬底上形成薄膜的技术,是一项与粉冶技术生产钨的体材料(块材)产品完全不同的工艺。最常见的是用六氟化钨作CVD沉积过程的钨源。室温下的WF6是液体,但通过待涂覆的零件时WE6因本身极高的蒸气压而与氢气合流,在大约300通过WF6+3H2W+6HF反应而有选择地涂在工件表面上。如沉积在集成电路上形成的钨通道(vias)作为小的金属插头可连接到电路板的另一条水平导线上。这种小插头的直径为0.4毫米,长径比为2.5,以后还可以把直径缩小到0.1毫米,使长径比达到5。由于钨具有优异的导电性,且不与周围的材料反应等条件,因此CVD法是填充通道、净化不需要钨的表面的唯一方法。

 


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